天津某半导鑫霖环保芯片造成厂，晶圆生产时候中导致含硅、氟的专项 生产污废水 ，设计的操作建设规模1200吨/日。生产污废水 物质僵化，带有奈米级硅小粒及氢佛酸，一般操作的方式不易不合格。 污水基本成分及来原 其主要生态破坏物 ：胶体溶液硅（100-500nm粒度分布）、氟阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 源工艺程序 ：晶圆刻蚀废水处理工艺处理方法（45%）、CMP化学上的机制拋光废水处理工艺处理方法（40%）、机械擦洗水（15%） 工作技术步骤流程 特色化应用"药剂学沉垫+独特的膜区分"高技术行车路线： 钙盐沉积 ：加药氯化钙的还原氟亚铁离子（转换CaF2放置） 斜板沉淀池反应迟钝 ：和好水解酸化池剂改变氢氧化铁硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm直径膜公款私存微细科粒 超滤性和机系统 ：脱盐率>98%，回收利用率75% 减压蒸馏析出 ：浓水段保证氟化物零的排放 既定成效 氟化物密度：<8mg/L（不超国家的6级标准规定10mg/L） 硅含锌量：<5mg/L 水材料工业废水处理率：70%应用于冷凝塔补水保湿 垃圾限制：蒸馏碎渣量较传统性加工制作工艺 限制60%